
半導体の進化を加速させる
キヤノンの総合力を合同展示。
毎年12月に東京ビッグサイトで開催される半導体サプライチェーンの国際展示会SEMICON Japan。2025年も、キヤノンインダストリアルグループでは、キヤノン光学機器事業本部、キヤノンアネルバ、キヤノンマシナリーの3社で合同出展しました。ナノインプリントリソグラフィ(NIL)、真空薄膜形成技術、高精度ダイボンダーといった、半導体製造のコアを支えるソリューションを一堂に展示。高専生や大学生、また若手ビジネスマンを含む多くの方にご来場いただき、ブース内の通路が埋め尽くされるほどの熱気あふれる3日間となりました。
エントランスムービー
ブース正面では、キヤノンインダストリアルグループとして初めて制作したブランディングムービーで来場者をお迎えしました。若手アーティストmoi.氏を起用したアニメーション映像で、キヤノンが目指す半導体の未来を表現。多くの来場者が立ち止まって見入っていました。
キヤノン ゾーン
半導体製造の前工程から後工程までを支える多彩な露光装置ラインアップ。独自のナノインプリント技術で微細な回路パターンを低コストで形成する半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」に大きな注目が集まりました。さらに、先端パッケージングに対応する後工程向け露光装置「FPA-5520iV LF2 オプション」も出展。消費電力の大幅な削減やフットプリントの縮小など、最先端の微細化と環境負荷低減を両立させるキヤノンのテクノロジーを紹介しました。


キヤノンアネルバ ゾーン
半導体デバイスの高性能化に欠かせない、真空薄膜形成技術の最新ソリューション。幅広い用途の成膜・エッチング工程に対応し、「iFデザインアワード 2025(プロダクト分野)」で金賞を受賞した装置シリーズ「Adastra(アダストラ)」を、パネルや実機構造を通してわかりやすく紹介しました。極めて高度なナノレベルの微細加工を支える独自の真空テクノロジーに対し、多くの方が熱心に耳を傾ける姿が印象的でした。


キヤノンマシナリー ゾーン
半導体製造の後工程において、高精度な実装ソリューションを展開。チップを基板に接合するダイボンダーをはじめ、はんだ成形や切断、検査に至るまで、シビアな位置合わせと高い生産性を両立する自動化装置の数々を展示しました。前工程だけでなく後工程も含め、キヤノングループ全体で半導体のサプライチェーンを強力にサポートしていく総合力をアピールしています。



MR体験コーナー
キヤノンのMR(Mixed Reality:複合現実)システム「MREAL(エムリアル)」を活用した体験コーナーです。専用のディスプレイを装着することで、目の前に実物大の半導体露光装置が出現。クリーンルームに設置される巨大な装置の圧倒的なスケール感や、普段は見ることのできない精巧な内部の露光動作を3Dのバーチャル映像でリアルに体感いただき、連日順番待ちの列ができるほどの盛況ぶりでした。


来場記念プレゼント
“色彩に染まる風景”をテーマに制作した「キヤノン2026卓上カレンダー」や、キヤノンアネルバの半導体製造装置「Adastra(アダストラ)」をモチーフにしたメモ帳をご来場御礼として配布しました。
