レジストは、多すぎても少なすぎても回路パターンの形成に支障をきたします。マスクを押し付けてもレジストがはみ出さずに、またレジストが不足しないような適切な量を任意の回路パターンに応じて算出しています。さらに、算出したとおりに正確に配置するのも至難のわざ。キヤノンがインクジェット技術で培った技術を応用して、レジストを吐出する複数のノズルを個別に管理し、制御・調整しています。

液滴の精密なコントロールが必要な「塗布」

半導体チップは複数のパターン層を積み重ねてつくるため、下の層のパターンに対する重ね合わせ精度が重要です。しかし、製造工程のさまざまな処理によってウエハー上のパターンは複雑に変形しており、精度の高い重ね合わせが困難でした。
キヤノンはウエハーにレーザーを照射して、熱によって下の層のウエハーと重ね合うように変形させるシステムを開発することで、これを解決。「物体を変形させる熱は精度が悪化する要因」という常識を逆手に取り、高い重ね合わせ精度を実現しました。

従来の半導体露光装置では38nmが解像力の技術的限界と言われていました。しかし、回路形成そのものの仕組みを大きく変えることでナノインプリントリソグラフィは15nm以下の解像に成功。1回の露光エリア（26mm×33mm）をエジプトの巨大ピラミッドの底面と仮定すると、0.2mmのペンで絵を描くぐらいの精密さに匹敵します。半導体技術に革命を起こすといわれる技術です。