キヤノンは、一眼レフカメラEOSシリーズ用の交換レンズとして開発中の望遠レンズ"EF500mm F4L IS II USM"と"EF600mm F4L IS II USM"の試作品を、9月21日から26日までドイツのケルンで開催される写真・映像関連機器の世界的な展示会「フォトキナ2010」に参考出展します。
EF500mm F4L IS II USM
試作品
EF600mm F4L IS II USM
試作品
"EF500mm F4L IS II USM"と"EF600mm F4L IS II USM"は、高性能な手ブレ補正機構を搭載したL（Luxury）レンズとして開発しています。蛍石などの特殊光学材料を採用して諸収差を良好に補正し、高い解像度とコントラストを両立した高画質と軽量化の実現を狙っています。
"EF500mm F4L IS II USM"、"EF600mm F4L IS II USM"はそれぞれ、プロの現場で高い評価を得ている「EF500mm F4L IS USM」（1999年7月発売）、「EF600mm F4L IS USM」（1999年9月発売）の後継機種として開発しています。スポーツや報道、ネイチャーフォトなど、厳しい撮影環境に求められる防塵・防滴性能の採用や、絞り開放からの高コントラストで高解像な画質の実現を狙っています。
キヤノンは、今後もプロやハイアマチュアの多様なニーズに積極的かつ柔軟に対応し、EFレンズのラインアップ拡充とさらなる性能の向上を図って、一眼レフカメラの撮像領域の拡大に貢献していきます。
