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キヤノンが開発中の望遠レンズ2本を米国の展示会に参考出展

キヤノンは、一眼レフカメラEOSシリーズ用の望遠レンズ“EF200mm F2L IS USM”と“EF800mm F5.6L IS USM”の2本を開発しています。
これらの試作品は、10月18日から20日まで、ニューヨークで開催される展示会「PhotoPlus」に参考出展されます。

“EF200mm F2L IS USM”と“EF800mm F5.6L IS USM”は、高性能な手ブレ補正機構を搭載したL（Luxury）レンズとして開発しています。
蛍石などの特殊光学材料を採用することで、諸収差を良好に補正し、高い解像度とコントラストを両立した高画質の実現を狙っています。
“EF200mm F2L IS USM”は、ポートレートや室内スポーツ撮影などにおいて、より明るいレンズを望むユーザー向けに、開放絞り値F2の大口径レンズとして開発しています。また、“EF800mm F5.6L IS USM”は、現行製品の「EF600mm F4L IS USM」を越える超望遠域に対応するレンズとして開発しているもので、スポーツ、報道などの分野から寄せられた、より長い焦点距離の高性能レンズを望む声に応えています。

キヤノンは、今後もプロやハイアマチュアの多様なニーズに積極的かつ柔軟に対応し、一眼レフカメラの撮影領域の拡大に貢献していきます。