- 概要
- 仕様
基本情報
装置名:MPAsp-E813
特長
第6世代ガラス基板での高精細パネル生産
私たちの身近にあるスマートフォンは急速に高精細化が進み、より高精細パネルへの要求が強まっています。MPAsp-E813は、第6世代ガラス基板(1500mm×1850mm)で、高精細パネルの生産を実現しました。液晶パネルのみならず、有機ELパネルの生産に欠かせない装置となっています。
新設計のミラー光学系と照明系の採用により、MPAsp-E813Hでは、解像力1.5μm(L/S)、2.0μm(C.H.)を実現しました。
これにより、800ppi(pixel per inch)を超える高精細パネルの生産が可能となります。
オーバーレイ精度の向上
新たに搭載した倍率補正機構と温調システムにより、従来機よりも誤差の少ないオーバーレイを実現しました。
新アライメントシステムを適用し、高速かつ高精度な計測を可能にしました。
高生産性&高稼働率
繋ぎムラがなく、広い露光フィールドを確保できる一括露光方式により、高精細パネルを効率的に生産することができます。
本体剛性アップに伴い、ステージ精度が向上し、これにより高い稼働率を維持しております。
オプション適用時には、更なるタクトアップを実現します。
超薄型ガラス基板への対応
軽量かつ薄型化が求められるスマートフォン等のモバイル製品では、ガラス基板の薄型化が求められます。
MPAsp-E813ではガラス基板搬送技術の向上により、厚さ0.3mmガラス基板への露光を実現しました。
基本仕様
MPAsp-E813H
解像力 | 1.5μm (L/S) |
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オーバーレイ精度 | ±0.3μm |
投影光学系 | 等倍反射投影光学系 |
縮小比 | 1:1(等倍) |
基板サイズ | 1,500mm×1,850mm |
外形寸法 | 8,000(幅)×9,900(奥行)×5,700(高さ)mm |
タクトタイム※1 | 46sec※2 |
MPAsp-E813T
解像力 | 2.0μm (L/S) |
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オーバーレイ精度 | ±0.35μm |
投影光学系 | 等倍反射投影光学系 |
縮小比 | 1:1(等倍) |
基板サイズ | 1,500mm×1,850mm |
外形寸法 | 8,000(幅)×9,900(奥行)×5,700(高さ)mm |
タクトタイム※1 | 46sec※2 |
MPAsp-E813P
解像力 | 3.0μm (L/S) |
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オーバーレイ精度 | ±0.5μm |
投影光学系 | 等倍反射投影光学系 |
縮小比 | 1:1(等倍) |
基板サイズ | 1,500mm×1,850mm |
外形寸法 | 8,000(幅)×9,900(奥行)×5,700(高さ)mm |
タクトタイム※1 | 53sec※3 |
- ※1 2×2 shot, 30 mJ/cm2時
- ※2 ハイブリッドモード、オプション適用時
- ※3 FDC モード