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FPD露光装置
MPAsp-H1003H/H1003T
第8世代基板サイズに対応したFPD露光装置

  • 概要
  • 仕様

基本情報

装置名:MPAsp-H1003H/H1003T

特長

近年、テレワークやオンライン教育の急速な普及により、ノートPCやタブレットPCなどのIT用ディスプレイの需要が増加しています。これらのディスプレイは、薄型・軽量化と共に、高精細化が求められます。
このようなIT用ディスプレイを効率よく生産するために、MPAsp-H1003Hを開発しました。

第8世代ガラス基板での高精細パネル生産

65型パネルを一括で露光できる「MPAsp-H1003T」の投影光学系を継承し、
第6世代対応高精細露光装置で実績のある超解像技術を取り入れることで、
第8世代ガラス基板(2200×2500mm) で1.5μmの高解像力を実現しました。
これにより、IT用ディスプレイ向け高精細パネルから、65型大型ディスプレイまで幅広いパネル製造が可能になります。

図:基板サイズの推移
基板サイズの推移

高い生産性と高精度な重ね合わせを実現

高速ステージ技術を改良しプレートステージの特性を向上させたことで、従来装置MPAsp-H1003Tと比べ、生産性が20%向上しました。
また、 「MPAsp-E813H」で実績のあるアライメント方式と倍率補正技術の組み合わせにより、オーバーレイ精度±0.35μmを実現しました。

プロセス対応力の強化

照明モード切替機構と露光スリット自動調整機構を搭載したことで、多様な回路パターンを効率よく適した条件で照射できます。これにより、多様化する製造プロセスへの対応力を強化します。

基本仕様

MPAsp-H1003H

解像力
1.5μm (L/S),2.0μm(C.H.)
オーバーレイ精度
±0.35μm
投影光学系
等倍反射投影光学系
縮小比
1:1(等倍)
基板サイズ
2,200mm×2,500mm
一括露光領域
65型ワイドパネル一括露光
外形寸法
10,500(幅)×12,100(奥行)×6,000(高さ)mm

MPAsp-H1003T

解像力
2.0μm (L/S)
オーバーレイ精度
±0.45μm
投影光学系
等倍反射投影光学系
縮小比
1:1(等倍)
基板サイズ
2,200mm×2,500mm
一括露光領域
65型ワイドパネル一括露光
外形寸法
10,500(幅)×12,100(奥行)×6,000(高さ)mm